| 出展展示会 | : | nano tech 2026 |
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| 小間番号 | : | AT-K07-05 |
| 出展ゾーン | : | その他:主催者特別展示 |
| 出展パビリオン | : | スタートアップ&大学研究室パビリオン |
誰もが手にできる圧倒的低コストな技術を商業化し続ける
独自改良「再沈殿法」により、従来困難だった化合物の安定ナノ粒子化を実現。溶液中での分散性・表面積を高め、物性向上や新規応用を可能にします。本技術は、水中微量汚染物質のリアルタイム検出、次世代蓄電池の高電圧・低コスト化、冷却液の熱伝導向上、水素運搬の効率化など、多様な分野で革新的なソリューションを提供します。
次世代電池、生産性向上、SDGs
スタートアップ企業や大学研究室によるピッチセッション!新たなビジネスチャンスや課題解決の機会創出を促し、オープンイノベーションを加速させます。ぜひご参加ください!
| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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精密噴霧で、ナノ表面を極める、材料を無駄にしない、次世代コーティング技術
数十年前より歩んできた電子基板へのコンフォーマルコーティングや、半導体分野での機能性材料等の薄膜塗布に関し、数種の特許を取りながら塗布技術の発展に貢献してきましたが、今回さらにナノコーティング分野での新工法を発表します。
星形エアーキャップという特殊加工ノズルを使用した旋回流霧化による微粒子形成に、静電印加を加えてコーティングすることにより、複雑な被塗面、アンダーカットを有したエッジ等への付周りが向上し抜群のカバーレッジを得ます。各種機能性液体を静電印加させ、旋回流円形パターンを施して静電微粒子形成によりナノオーダーの成膜を形成します。
| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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| 会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(西1ホール) |
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セラミクスや金属など,鏡面研磨した任意材料の基板を室温接合します.
同氏は,原子拡散接合法と呼ばれる室温接合技術を提案し,企業との共同研究を通して,その社会実装に努めている.鏡面研磨した任意材料の基板を室温で接合できるこの技術は,既に,一部の複合ウエハや電子デバイスの生産にも使われている.この研究により,令和7年度 科学技術分野の文部科学大臣表彰 科学技術賞(研究部門)を受賞している.
我々が提案した原子拡散接合法ADBは,無機薄膜(金属膜,酸化膜,窒化膜等)を用いた室温接合技術です.セラミクスや金属など,鏡面研磨した任意の材料のウエハや基板を室温接合できます.ADBは,既に,複合ウエハや電子デバイス等の生産にも使われています.今回は,更に発展した新しいADBのご紹介も含め,原子拡散接合法ADBの技術概要と応用例をご紹介します.
下記情報は来場者から出展者への事前アポイント・問合せを目的に公開しています。
それ以外の目的(セールス等)で無断に使用・転載する事を固く禁じます。
| 企業名 | : | NanoFrontier |
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| 住所 | : | 〒 980-0812 宮城県 仙台市青葉区片平2-1-1 東北大学産学連携先端材料研究開発センター215号室 |
| URL | : | https://nanofrontier.jp/ |