2017年、東京大学大規模集積システム設計教育センター特任講師、2019年より東京大学大学院工学系研究科附属システムデザイン研究センター特任講師、現在に至る。主に電子線描画装置を用いた微細構造デバイスの光応用およびシリコンフォトニクスへの展開。

近年、ナノ構造を用いた光デバイス、プラズモニックデバイスの研究が盛んにおこなわれています。ナノ構造デバイスの作製には電子線描画装置が利用されますが、ポイントビーム法では大面積描画には向きません。本講演では、電子線描画装置の中でLSIのガラスマスクを作製する際に使われる可変成形ビーム法と特定の構造に特化したキャラクタープロジェクション法を用いた超高速高精細描画による金ナノギャップの作製方法およびCOMSOLを用いたプラズモンデバイスの設計について発表いたします。