会場 | : | シーズ&ニーズセミナーB(東4ホール) |
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当社が保有する日本発、オンリーワンの技術である高純度オゾンガスを用いたプロセス技術・製品とそのアプリケーションを紹介いたします。
製品:ピュアオゾンジェネレータ(POG)
オゾンガスを80%以上の高純度でオンデマンドに供給する装置になります。
電子ビーム露光装置などの真空装置の洗浄、MBEやALDなどの成膜用酸化源として70台以上の導入実績があります。
製品:OER表面改質/洗浄/アッシング装置
当社独自のラジカル発生技術、OER技術を用いた表面改質、洗浄、アッシング装置になります。
プラズマや水を使用せず、ダメージレスな処理が可能、親水化接合の前処理としても導入実績があり、新たな用途への応用が期待されています。
製品:PO-ALD成膜装置
酸化源に高純度オゾンガスを用いたALD成膜装置になります。
プラズマフリーかつ150度以下での酸化膜成膜を特徴とし、低ダメージが求められる基材に対して、高い被覆率、高いレートでの成膜が可能です。