【スペースフォトン】DOEで生成する高精度レーザパターンの応用事例紹介　　 【イー・アンド・イーエボリューション】半導体プロセス・ウエハ加工は弊社にお任せください

15:00-15:15

【講演者プロフィール】

株式会社スペースフオトン
代表取締役　川島勇人

E&E evolution株式会社
代表取締役　鈴木淳志

【講演概要】

【スペースフォトン】
スペースフォトンは独自開発によるDOEの設計開発に取り組むスタートアップです。0次光の影響なくレーザ光を直線や点列などの形状パターンに自在に集光できる特殊レンズとして機能します。レーザ加工やレーザ計測、レーザ表示などへの適用が可能で、これまでに、各種大手メーカの研究開発部門や大学・公的研究機関に対し、DOEやレーザパターン投光器等の納入実績がございます。本セミナーでは、これら事例についてご紹介します。
【イー・アンド・イーエボリューション】
LEDの加工プロセス技術を源流とする大学発ベンチャー企業です。大学で培われたシーズ技術を世の中に広く展開することをヴィジョンに掲げております。
GaN系半導体の結晶成長から、メタル成膜・エッチング加工などの前工程、モジュール化を含む実装加工まで幅広くかつ柔軟に対応いたします。
また、サブミクロンスケールの微細パターニング加工も得意としております。

特殊多孔質構造を持つ堆積岩「AERIAL™」の発表を行います。

15:15-15:30

新開発の特殊ノズルにより中高粘度防湿剤のフィルム状塗布パターン形成が可能！

中高粘度液体材料を帯状に飛散なく高速塗布する塗布バルブ＆方法

15:30-15:45

【講演者プロフィール】

Shimada Appli合同会社の代表社員で、今回新たに基板防湿コーティングで30年以上前に開発したフィルムコートで成し得なかった200センチポイズ以上の液体をフィルム状塗布パターンにて高速塗布するバルブ及び工法を開発特許申請しました。　

【講演概要】

粘度２００～1０００センチポイズの防湿絶縁材を特殊ノズル（特許申請中）を利用して、フィルム状吐出パターンを形成して塗布するセレクティブコーティング（カーテン塗布）により高速での塗布が可能となりました。
そのため、無溶剤型シリコーン、UV系防湿剤を、従来の2流体スプレーに比べ2倍以上の塗布速度でコーティングが可能となります

ALD: 原子層堆積技術とその応用

15:45-16:00

【講演概要】

先端半導体でALD技術が進展してきましたが、それ以外の用途でも研究開発はますます活発してきました。ペロブスカイト太陽電池、全固体を含む電池、Ptなどに代表される触媒などなど。今回はその中でも特に触媒のナノサイズで設計する技術にフォーカスして発表させて頂きます。