半導体結晶のキラー欠陥自動検査システム
次世代半導体デバイスでは結晶欠陥が性能・歩留り劣化の原因となります。我々は、SiC(炭化ケイ素)基板中の結晶欠陥を光学測定により観察する装置を開発し、数理アルゴリズムによってこれらの欠陥の位置を自動検出するシステムを開発しました。光学測定だけでなく、その他の観察画像からデータを抽出するアルゴリズムの設計でもご協力できます。【名古屋大学未来材料・システム研究所 原田 俊太】
欠陥検出システム
Mipox株式会社の偏光観察装置XS-1と欠陥検出アルゴリズムにより、キラー欠陥の自動検出を実現。その他観察データの自動検出アルゴリズム設計もご協力できます。【名古屋大学未来材料・システム研究所 原田 俊太】
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名古屋大学・Mipox株式会社
名古屋大学 未来材料・システム研究所 原田 俊太