製品・サービス 1 ブース内プレゼン 新製品 資料PDF

ヒールッシャー工業用 大型循環超音波処理装置 500W～16,000W

凝集したナノ粒子の分散にキャビテーション100%のヒールッシャー超音波装置は非常に有効です。電子材料、電池材料、機能性材料、化粧品材料の分散・乳化等に使用できます。機器内発熱が無いため、24時間の連続稼働が可能です。今までの想像を超えた生産用超音波分散装置 。単体で最大16000W,システム化で最大60,000W なおかつ、イーサネット対応で自動化に対応。

2021-10 Hielscher 工業機器カタログ.pdf

製品・サービス 2 ブース内プレゼン 新製品 資料PDF

日本国内防爆認定取得（Zone1）超音波処理装置 2000W～8000W

新製品。
生産用防爆認定超音波処理装置。
ICE防爆認定取得に加え、日本国内防爆認定取得（Zone1）し、安心して防爆エリアに設置使用することができます。ヒールッシャー2000hdT-XP(2000W)～8000hdT-XP(8000W)の超音波処理装置です。

2020-12 日本国内防爆型式認定超音波8000W.pdf

製品・サービス 3 ブース内プレゼン デモ 新製品 資料PDF

ラボ用強力超音波処理装置 50W-400W（24時間連続運転可能）

凝集したナノ粒子の分散にキャビテーション100%のヒールッシャー超音波装置は非常に有効です。ラボ用強力超音波処理装置（ヒールッシャーUP50H～UP400St）はラボ機でも24 時間連続運転可能、気中空運転も24時間可能。
機器発熱がないため、非常にコンパクトに設計されており、2,1Kg～3,5kgと軽量。標準にて測温体装備にて温度モニター、SDカードに運転データを保存。イーサネット対応でソフトウェア不要でPC接続が可能。

2021-10 Hielscher ラボ用カタログ.pdf

製品・サービス 4 ブース内プレゼン 新製品 資料PDF

96 Wall Plate 専用超音波均一処理装置　UIP400MTP

96Wall Plate専用に開発された超音波処理装置です。
◆ ベッセル内水温循環による温度管理
◆ Hielscher特長の高強度出力を大面積に均一低強度に設計しています。
用途は分析前のサンプル調製、細胞を用いるCell-based assay (ELISA,PCR等)、細胞のリシス、細胞破壊、
ならびにタンパク質抽出および標的細胞内分子の放出等です。

2021 Hielscherマルチプレート処理装置UIP400MTPカタログ.pdf

製品・サービス 5 ブース内プレゼン 新製品 資料PDF

粉体＆スラリー　イオン親水化装置　Rich Ion Hydolofilitor

粉体自体の親水性を向上させる方法として、対象粉体に強力な電圧電界を一定時間照射することで親水性を向上させる装置です。装置内部には外部と絶縁したチャンバーがあり、この強力電圧電界のチャンバー内に24時間対象粉体を入れ照射します。
強力電圧電界は袋を通過して、内部の対象粉体に分子の電子配列かたよりを生じさせます。
このかたよりが対象粉体の親水性を向上させるのです。

2021-09イオン親水化装置Rich Ion Hydolofilitorカタログ_WEB.pdf

製品・サービス 6 ブース内プレゼン 新製品 資料PDF

滴定機能付き ゼータ電位測定装置 Stabino（スタビノ）II

本装置は流動電位法を採用しているため、電気泳動法とはことなる測定方式となっています。
流動電位法の特徴としては電気泳動法では測定が困難なスラリー状のサンプルを測定することが可能です。
また、滴定機能を保持しているため、測定サンプルのゼータ電位を得られるだけでなく、その後の研究開発等にも活用できる商品となっています。
測定方法も容易で再現性高く測定することが可能な装置となっています。

DKSH_COLLOID_METRIX_2_2021_0916_lowreso_forWEB_outlined.pdf

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