超高速1kHz高安定性液晶空間光変調器
産業用・理科学/研究開発用に最適な世界最先端のフェムト・ピコ・ナノ秒、CWレーザ、レーザ計測・制御機器、進化型分光器、薄膜密着強度測定機、膜厚モニターをご紹介。
●最新の高出力・高エネルギーフェムト秒レーザをご紹介: CARBIDE, PHAROS
●次世代型リアルタイム超短パルス高精度計測・モニターによる保守管理: pulseCheck NX
●2D/3Dビームステアリングに最適な超高速・高解像度SLMの実演
ワンボックス高出力産業⽤フェムト秒レーザ (CARBIDE 80W)
1 筐体内に全てを集約し機器組込み可能なフェムト秒レーザ。パルス・オン・デマンドやBiBurst機能により金属・セラミックス・ガラス等の微細加工に最適。I-OPAによりフレキシブルに波長可変できマルチフォトン顕微鏡に最適。
●パルス幅:190fs〜20ps可変
●最⼤パルスエネルギー:2mJ
●最⼤出⼒:80W
●繰返し周波数:シングルショット~2MHz
●⾼調波:515/343/257nm(⾃動切替)
●空冷タイプ有:6/5W, <190fs~20ps可変, 100μJ
![]() |
![]() |
理科学用・研究開発/産業用 高平均出力・高エネルギーフェムト秒レーザ:PHAROS
高平均出力(>20W)と高エネルギー(>3mJ)が得られ、高繰返し(~1MHz可変)、パルス幅(100fs~20ps)可変等で高品位・高精度な加工を高速に実現。アブレーション加工や難加工材料、各種微細加工、BiBurstオプションやCEP安定化オプションで更に高度な加工を実現。
パルス・オン・デマンド機能、本体に直付け高調波(515/343/257/206nm)やI-OPAオプションにより、アプリケーション開発や機器組込み等、研究開発・産業・理科学用に最適。
![]() |
![]() |
次世代型リアルタイム超短パルス高精度計測・モニターによる保守管理:pulseCheck NX
全てが高度に統合され最先端のデータ処理・評価機能を併せ持つ新世代の短パルス高精度計測機器。短パルスレーザシステムの計測・解析・監視・最適化が可能。
★時間分解能50アトセカンドを達成
★TCP/IPを介したSCPIリモート制御
●TPA測定波長:250~3200nm
●PD, PMT測定波長:200~3200nm or 3~ 12μm,
●測定パルス幅:5fs~15ps or 10fs~40ps or 20fs~500ps (SM2000)
●トリガ入力による低繰返し周波数測定
●FROGオプション
![]() |
![]() |
LCOS超高速1kHz、高位相安定性液晶空間光変調器
独自開発の LCOS 技術によるユニークな設計と常に新しいレートで直接アナログデータを届けるアナログドライブ技術により、リップルの無い安定性の高い位相変調が可能。
●超高速応答:>1kHz @532nm
●高速PCIeコントローラ:1436.1Hzまで可能
●波長範囲:488nm~1650nm
●解像度:1024x1024ピクセル
●ダイエレクトリックミラー(ARコート付き)回折効率:92~98%
●高光利用効率:97.2%
高速で高い回折効率が必要とされる応用に最適
![]() |
![]() |
⑤ LD励起コンパクトナノ秒レーザ(NL230)/高エネルギー一体型波長可変ナノ秒レーザ(NT230)
EKSPLA社製DPSSナノ秒レーザは丈夫で密閉構造、長時間メンテナンスフリーの高安定性で最大パルスエネルギー:190mJ(NL230)はLIBS・LIF、LIDAR、レーザアブレーション、TFT-LCDリペア等に最適。最大繰返し周波数:<2500Hz(NL200)は深堀加工、透明材料内部加工等に最適。NT230はOPOとNd:YAGレーザをコンパクトに集積した一体型で、広範囲(192~2600nm)にPCから波長可変可能。計量学や非線形光学等、各種のラボ応用研究用途に最適。
![]() |
![]() |
最先端の体積イメージング・位相差顕微鏡にも対応可能なLCoS超高速1kHz、高位相安定性SLM
フォトテクニカ株式会社
川田 雅之氏
【講演概要】
光を任意に制御する光学部品の中でも、「光波の位相」を制御し光波補正・光計測・光パルス整形に使用するSLM液晶空間光変調器の必然性が高まっています。米国メドラークオプティクス社製のSLMは、独自技術のアナログドライブ技術による高い位相安定性と市販品レベルで最速の応答速度がさらに最速に進化したニューモデルで新登場します。読みだした光の位相だけを2π以上変調することにより、多彩なアプリケーションで高安定性の位相制御を高速に行う事が可能です。高速SLMの制御による顕微鏡の補正や微細加工等における多点高速制御などのアプリケーション例をご紹介させて頂きます。
【申込方法】
お申込み先
TEL: 048 871-0067
E-mail: voc@phototechnica.co.jp
フォトテクニカ株式会社
金 南宰氏
【講演者プロフィール】
2005年より薄膜密着強度測定専用装置Romulus販売を担当しています。
【講演概要】
薄膜の密着力測定する方法(垂直引張試験)を説明致します。
基板(例:シリコン,ガラス)上に薄膜(例:酸化シリコン,カラーフィルタ)がどの程度密着しているかを
定量測定(強度kg/cm^2,MPa)する方法を説明致します。
複合材(例:シリコン/ガラス)の張り合わせ強度測定(kg/cm^2,MPa)する方法も説明致します。
用途:メッキ膜,半導体材料膜,Display関係膜 等
【申込方法】
聴講を希望される方は、直接会場までお越しください。
下記情報は来場者から出展者への事前アポイント・問合せを目的に公開しています。
それ以外の目的(セールス等)で無断に使用・転載する事を固く禁じます。
フォトテクニカ
営業部